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2015-06-18 10:21:03

• Acoustic Feedback 声反馈; audio frequency 视频;

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  王***

  2015-06-18 10:21:03

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2015-06-16 15:39:28

• 翻译：Acoustic Feedback 声反馈; audio frequency 视频;

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  王***

  2015-06-16 15:39:28

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2015-06-16 09:56:51

•   离子镀膜技术是美国Sandia公司的D。M。Mattox于1963年首先提出来的。是在真空蒸发和真空溅射基础上发展起来的一种新的镀膜技术。离子镀的英文全称Ion Plating，简称IP。它是在真空条件下，应用气体放电实现镀膜的，即在真空室中使气体或蒸发物质电离，在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，同时将蒸发物或其反应产物蒸镀在基片上。
    1972年，Banshah提出了在真空放电蒸镀时，导入反应气体生成化合物的方法，即（活性反应蒸镀法）（简称ARE法）。与此同时，在离子镀时代替氩气导入一部分反应气体生成化合物薄膜，形成了反应性离子镀法（简称RIP法）等等。
  根据不同膜材的气化方式和离化方式，可构成不同类型的离子镀膜方式。
    膜材的气化方式有：电阻加热，电子束加热，等离子电子束加热，高频感应加热，阴极弧光放电加热等。气体分子或原子的离化和激活方式有：辉光放电型，电子束型，热电子型，等离子电子束型，多弧形及高真空电弧放电型，以及各种形式的离子源等。不同的蒸发源与不同的电离或激发方式可以有多种不同的组合。
    目前比较常用的组合方式。

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  不***

  2015-06-16 09:56:51

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