如何除去SiO2中的Si杂质
如何除去SiO2中的Si杂质?
上面有点答非所问! 硅的化学性质比较活泼,在高温下能与氧气等多种元素化合。 故可将混合物通过O2,并高温加热,则Si杂质将转化为SiO2
纯净的硅(Si)是从自然界中的石英矿石(主要成分二氧化硅)中提取出来的,分几步反应: 1。二氧化硅和炭粉在高条件下反应,生成粗硅: SiO2+2C==Si(粗)+2CO 2。粗硅和氯气在高条件下反应生成氯化硅: Si(粗)+2Cl2==SiCl4 3。
氯化硅和氢气在高条件下反应得到纯净硅: SiCl4+2H2==Si(纯)+4HCl 以上是硅的工业制法,在实验室中可以用以下方法制得较纯的硅: 1。将细砂粉(SiO2)和镁粉混合加热,制得粗硅: SiO2+2Mg==2MgO+Si(粗) 2。
这些粗硅中往往含有镁,氧化镁和硅化镁,这些杂质可以用盐酸除去: Mg+2HCl==MgCl2+H2 MgO+2HCl==MgCl2+H2O Mg2Si+4HCl==2MgCl2+SiH4 3。过滤,滤渣即为纯硅 ? (一)国内外多晶硅生产的主要工艺技术 1,改良西门子法――闭环式三氯氢硅氢还原法 改良西门子法是用氯和氢合成氯化氢(或外购氯化氢),氯化氢和工业硅粉在一定的度下合成三氯氢硅,然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯,提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅。
国内外现有的多晶硅厂绝大部分采用此法生产电子级与太阳能级多晶硅。
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